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高分辨透射电镜(Talos F200X G2 TEM)

作者:阅读次数:发布日期:2022-01-17


主要技术指标:

加速电压:200 kV;

HRTEM线分辨率:0.10 nm;

HRSTEM分辨率:0.14 nm;

样品倾斜角度X/Y:±30°

X-FEG的亮度:1.8×109A/cm2sard(200 kV下);

Super-X EDS系统:4 SDD对称设计、无窗、遮光板保护;

能量分辨率:≤136 eV,适用于Mn-Kα和10 kcps(输出)

主要应用方向:

材料形貌、电子衍射、高分辨图像及成分分析

材料原子结构分析(重、轻原子)

三维结构分析

磁畴结构分析

多相多场(力、热、电、气、液)原位实验。

主要特点:

融合了卓越的高分辨率STEM和TEM成像,利用智能扫描引擎、基于多个STEM探测器的四通道合并技术,以及微分相位衬度(DPC/iDPC)成像技术,可以从多个维度快速、准确地分析材料的结构、成分信息,同时可选定特定设计的样品台进行原位动态实验,可用于材料科学、材料化学、物理化学等多个科学领域。